半導體集成電路的高速發(fā)展是潔凈度等級的擴大和控制微粒粒徑日益嚴格的重要標志。

半導體凈化車間設計的設計范圍包括：裝修方案（圍護、地面防水保溫處理），暖通方案（空調(diào)設備、風管、水管等），特氣供應方案（特氣柜含保險控制、房間氣體監(jiān)測、EP級管道及BA級管道、供氣管路尾氣處理），壓縮空氣方案，廢氣處理方案（儀器設備POU處理、房間排風廢氣處理），電氣方案（空調(diào)設備動力配電等），弱電工程，集成控制智能平臺，純水方案（冷卻水、去離子水、超純水、水管等），廢水處理。

一、我國潔凈廠房、潔凈室的標準規(guī)范主要有：

1. GB50073 潔凈廠房設計規(guī)范

2. GB50457 醫(yī)藥工業(yè)潔凈廠房設計規(guī)范

3. GB50472電子工業(yè)潔凈廠房設計規(guī)范

4. GB50591 潔凈室施工及驗收規(guī)范

5. GB50333醫(yī)院手術部建筑技術規(guī)范

6. GB50346生物安全實驗室建筑技術規(guī)范

二、結構圍護工程

墻板及吊頂：本工程隔墻采用企口型機制玻鎂巖棉夾芯板0.426，玻鎂巖棉彩鋼板符合潔凈廠房二級消防要求，玻鎂巖棉彩鋼夾芯板具有1000℃的耐火性能，耐火等級達到A級。巖棉密度：≥1000kg/m3；導熱系數(shù)：≤0.046w/m.k；燃燒性能：A級（不燃）。耐火極限為30~120分鐘。廣泛應用于食品、電子、醫(yī)藥、飲料、生物研究等行業(yè)。

地板：車間內(nèi)采用防靜電型PVC地板，其中千級和百級車間采用防靜電型架高鋼板，其它為普通型PVC地板。PVC地板是當今世界上非常流行的一種新型輕體地面裝飾材料，也稱為“輕體地材”使用非常廣泛，比如家庭、醫(yī)院、學校、辦公樓、工廠、公共場所、超市、商業(yè)等各種場所。

三、暖通工程

設備：空調(diào)制冷負荷：經(jīng)統(tǒng)計計算，總冷負荷約500KW。采用恒溫恒濕潔凈空調(diào)，夏季采用磁懸浮水冷機組，冬季采用廠區(qū)鍋爐熱水供熱。

風管：風管采用共板法蘭風管。

水管：空調(diào)水管采用無縫鋼管。水泵采用星-三角降壓啟動。

四、特種氣體工程

工藝氣體種類多，純度高，并且易燃易爆有毒。安全問題突出，為保證系統(tǒng)的安全和穩(wěn)定可靠，建議采用進口成熟產(chǎn)品。

因為 MOCVD 生長使用的源是易燃、易爆、毒性很大的物質(zhì)，并且要生長多組分、大面積、薄層和超薄層異質(zhì)材料，因此在MOCVD 系統(tǒng)的設計思想上，通常要考慮系統(tǒng)密封性要好，流量、溫度控制要明確，組分變換要迅速，系統(tǒng)要緊湊等。核心工作是氣體輸運系統(tǒng)和尾氣處理系統(tǒng)。

五、空壓氣體工程

螺桿式空壓機組主要主要有以下系統(tǒng)組成：空氣流程系統(tǒng)、潤滑油流程系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、安全保護系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及電氣線路。螺桿式空壓機組主要有壓縮機、電動機、空氣濾清器、進氣閥、油氣桶、空氣冷卻器、潤滑油冷卻器壓力開關、單向閥、儲氣罐、壓力表、自動排水器、安全閥等設備部件。另外在空壓機系統(tǒng)中大多配置冷干機和空氣干燥器。

六、廢氣工程

由于半導體工藝對操作室清潔度要求高，通常使用風機抽取工藝過程中揮發(fā)的各類廢氣，因此半導體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。廢氣排放也以揮發(fā)為主。表中給出了不同生產(chǎn)工藝排放的廢氣組成。這些廢氣排放主要可以分為四類：酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣和有毒氣體。

七、生產(chǎn)廢氣排放源及組成表

廢氣來源組成外延工序SiH4、SiHCl3、SiH2Cl2、SiCl4、AsH3、B2H6、PH3、HCl、H2清洗工序H2SO4、H2O2、HNO3、HCl、HF、H3PO4、NH4F、NH4OH 等光刻工序異丙醇、醋酸丁酯、甲苯、Cl2、BCl3、C2F6、C3F8、CF4、SF6、HF、HCl、NO、C3H8、HBr、H2S 等化學機械拋光NH4OH、NH4Cl、NH3、KOH、有機酸鹽化學氣相沉淀SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、SiF4、CF4、B2H6、PH3、NF3、HCl、HF、NH3擴散、離子注入BF3、AsH3、PH3、H2、SiH4、SiH2Cl2、BBr3、BCl3、B2H6金屬化工序SiH4、BCl3、AlCl3、TiCl4、WF6、TiF4、SiF4、AlF3、BF3、SF6等 對酸性氣體、堿性氣體的處理一般都采用濕式洗滌塔技術。

對于有機廢氣采用吸附、焚燒或兩者相結合的處理方法。因為半導體工藝過程中有機廢氣具有排放流量大（通常大于11039 m3/小時）和濃度低（通常小于25ppmv）的特點，使用其它的處理技術難以達到令人滿意的處理效率。沸石濃縮轉輪后再吸附或焚燒。